我们提供离子注入材料用于半导体“杂质掺杂”制程。 我们的离子注入材料可以分为“气态源”和“固态源”两大类。
气态源
我们提供高纯度离子注入材料作为气态源。
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产品名称 | 化学名称 |
分子式 | 纯度 | 尺寸 |
|---|---|---|---|---|
| 3M™ 11B 浓缩三氟化硼 | 11B Enriched Boron Trifluoride | 11BF３ | 99.99% | *** |
| 四氟化锗 | Germanium Tetrafluoride | GeF4 | 99.99% | *** |
固态源
我们提供高纯度离子注入材料作为固态源。
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产品名称 | 化学名称 |
分子式 | 纯度 | 尺寸 |
|---|---|---|---|---|
| 红磷 | Red Phosphorus | P | 99.9999% | 块, 锭 |
| 砷 | Arsenic | As | 99.9999% | 块 |
| 三氧化二锑 | Antimony Trioxide | Sb2O3 | 99.999% |
颗粒, 粉末 |
| 三氯化铟 | Indium Trichloride | InCl3 | 99.999% | 颗粒 |
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